[发明专利]一种场效应管有效
申请号: | 201611051951.7 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN106384747B | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 李风浪;李舒歆 | 申请(专利权)人: | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/10 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 连平 |
地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种场效应管,包括半导体衬底;形成在半导体衬底正面的漂移区;依次形成在漂移区表面上的栅绝缘层和多晶硅栅极;依次形成在漂移区表面内的体区和位于体区内的源区,体区和源区位于多晶硅栅极的两侧;形成在源区表面的源极金属层;形成在半导体衬底背面的漏极金属层,漂移区与多晶硅栅极间增加绝缘介质区,进而增加多晶硅栅极和漂移区间距,减小栅漏寄生电容,提高开关速度。 | ||
搜索关键词: | 一种 场效应 | ||
【主权项】:
1.一种场效应管,包括半导体衬底;形成在半导体衬底正面的漂移区;依次形成在漂移区表面上的栅绝缘层和多晶硅栅极;依次形成在漂移区表面内的体区和位于体区内的源区,体区和源区位于多晶硅栅极的两侧;形成在源区表面的源极金属层;形成在半导体衬底背面的漏极金属层,其特征在于:所述体区包括第一体区与第二体区两部分,第一体区多数载流子浓度大于第二体区多数载流子浓度,所述栅绝缘层与所述第二体区接触,所述栅绝缘层与漂移区之间形成绝缘介质区,所述绝缘介质区两侧与所述第二体区接触,所述绝缘介质区厚度不小于所述第二体区厚度。
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