[发明专利]一种金属纳米网的制备方法有效
申请号: | 201611044736.4 | 申请日: | 2016-11-24 |
公开(公告)号: | CN106504830B | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 郭秋泉;赵呈春;胡明俊;杨军 | 申请(专利权)人: | 深圳拓扑精膜科技有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人: | 郭防;王培境 |
地址: | 518052 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属纳米网的制备方法,包括以下步骤:S1、金属层的蒸镀;S2、高分子层的涂覆;S3、分离和移转;S4、高分子层的去除。本发明提供的一种金属纳米网的制备方法,具有以下优点:(1)制备的金属纳米网均匀性好、重复率高、结构容易控制。(2)带有铝基的单通多孔阳极氧化铝模板,制备时间仅几分钟就可以完成,缩短了生产时间。(3)在移转过程中,以高分子材料层作为支撑,提高了转移过程中的成功率。(4)分离后的铝基表面规则凹坑结构可以完美保留,经简单处理,可以直接进行阳极氧化得到规则的纳米孔结构,从而实现了铝基的重复利用。(5)本发明的制备方法,制备步骤少,制备时间短,成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属纳米网的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、金属层的蒸镀:在多孔阳极氧化铝模板表面蒸镀金属层;S2、高分子层的涂覆:在金属层的表面涂覆高分子薄膜,形成高分子层,高分子材料不进入到AAO孔内部;S3、分离和移转:将步骤S2中所得产品置于腐蚀液中,去除多孔阳极氧化铝模板中多孔氧化层,使得金属层与多孔阳极氧化铝模板中铝基分离,移转带有高分子薄膜的金属层至目标衬底上;S4、高分子层的去除:通过有机溶剂将高分子层去除,在目标衬底上即得金属纳米网。
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