[发明专利]一种体全息元件制作方法有效
申请号: | 201611033273.1 | 申请日: | 2016-11-16 |
公开(公告)号: | CN106406061B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 浦东林;陈林森;朱鹏飞;张瑾 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
主分类号: | G03H1/02 | 分类号: | G03H1/02;G02B5/32;G02B5/18 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种体全息元件,其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,信息层设置于基材层上,或者信息层设置于相邻的两基材层之间;从体全息元件的剖面看,其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面,每个像素内部的条纹面具有周期性,并且与基片平面具有夹角,每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光,经后续化学或物理处理,构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。 | ||
搜索关键词: | 一种 全息 元件 制作方法 | ||
【主权项】:
一种体全息元件,其特征在于,包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,所述信息层设置于所述基材层上。
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