[发明专利]鳍状场效晶体管在审
申请号: | 201611024390.1 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN106981517A | 公开(公告)日: | 2017-07-25 |
发明(设计)人: | 张哲诚;林志翰 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明实施例提供一种鳍状场效晶体管,包括衬底、至少一栅极结构、多个间隔物以及源极区与漏极区。所述衬底具有多个鳍片以及多个绝缘体位于多个鳍片之间。源极区与漏极区设置于至少一栅极结构的两个相对侧边。栅极结构设置并覆盖于多个鳍片与多个绝缘体上方。所述栅极结构包括设置于衬底上的堆叠条以及设置于堆叠条上的栅电极堆叠。所述多个间隔物设置于栅极结构的相对侧壁上,且栅电极堆叠与相对设置的间隔物的侧壁相接触。 | ||
搜索关键词: | 鳍状场效 晶体管 | ||
【主权项】:
一种鳍状场效晶体管,其特征在于,包括:衬底,所述衬底具有多个鳍片以及多个绝缘体位于所述鳍片之间;至少一栅极结构,设置并覆盖于所述鳍片与所述绝缘体上方,其中,所述至少一栅极结构包括设置于所述衬底上的堆叠条以及设置于所述堆叠条上的栅电极堆叠;多个间隔物,设置于所述至少一栅极结构的相对侧壁上,其中,所述栅电极堆叠与相对设置的所述间隔物的侧壁相接触;以及源极与漏极区,设置于所述至少一栅极结构的两个相对侧边。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611024390.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于轴向竖孔加工的辅助夹紧装置
- 下一篇:一种角度样板制造工装及制造方法
- 同类专利
- 专利分类