[发明专利]具有多级主工艺步骤的热处理设备工艺控制装置及方法有效
申请号: | 201610970963.3 | 申请日: | 2016-10-28 |
公开(公告)号: | CN106384723B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 徐冬 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G05D23/19 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;张磊 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种具有多级主工艺步骤的热处理设备工艺控制装置和方法,包括加热器、给加热器供电的电力供应单元、测量反应腔室温度的温度测量单元、信号处理单元、包含在电力供应单元中的功率控制单元、专用温度控制器和工艺模块控制器;当工艺流程开始前,工艺模块控制器将工艺文件中至少连续两步正常主工艺步骤的工艺参数和与各主工艺步骤相对应的所有从属工艺文件的工艺参数信息导入温度控制器的缓存区内;当进行主工艺步骤切换时,由工艺模块控制器主动发送切换控制的信号量,专用温度控制器以指针方式或者存储器位置跳转的方式将需更新的工艺参数从缓存区导入运行中的功率控制单元,与信号处理单元一起实现电力供应单元的控制信息更新。 | ||
搜索关键词: | 具有 多级 工艺 步骤 热处理 设备 控制 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有多级主工艺步骤的热处理设备工艺控制装置;其特征在于,包括:用于给反应腔室供热的加热器、给所述加热器供电的电力供应单元、测量所述反应腔室温度的温度测量单元、信号处理单元、包含在电力供应单元中的功率控制单元、专用温度控制器和工艺模块控制器;所述信号处理单元接收所述温度测量单元发送所述反应腔室的实时温度测量结果和温度测量单元状态信息,其中,所述工艺模块控制器分别与信号处理单元、专用温度控制器和电力供应单元相连;当工艺流程开始前,所述工艺模块控制器将工艺文件中至少连续两步正常主工艺步骤的工艺参数和与各主工艺步骤相对应的所有从属工艺文件的工艺参数信息导入专用温度控制器的缓存区内;当进行主工艺步骤切换时,由所述工艺模块控制器主动发送切换控制的信号量,所述专用温度控制器以指针方式或者存储器位置跳转的方式将需更新的工艺参数从缓存区导入运行中的功率控制单元,与所述信号处理单元输出信号一起,实现所述电力供应单元的控制信息更新。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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