[发明专利]高透过型耐磨光学组合薄膜在审
| 申请号： | 201610962345.4 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN107884848A | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 周峰 | 申请（专利权）人： | 江苏日久光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/14;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 | 代理人： | 周高 |
| 地址： | 215325 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高透过型耐磨光学组合薄膜，包括量子点层，所述量子点层的一侧由近至远依次设置有第一高阻隔膜、第一AR涂层、第一SiO涂层和第一C3N4涂层，所述量子点层的另一侧由近至远依次设置有第二高阻隔膜、第二AR涂层、第二SiO涂层和第二C3N4涂层；所述的量子点层由若干交替分布且均匀间隔分散的第一量子点和第二量子点组成。本发明的高透过型耐磨光学组合薄膜，其结构简单，能有效防止量子点层劣化，提高液晶显示的色域，降低反射率，增加透光率的高透过型光学组合薄膜，且还具有良好的耐磨性能。 | ||
| 搜索关键词： | 透过 耐磨 光学 组合 薄膜 | ||
【主权项】：
一种高透过型耐磨光学组合薄膜，其特征在于，包括量子点层，所述量子点层的一侧由近至远依次设置有第一高阻隔膜、第一AR涂层、第一SiO涂层和第一C3N4涂层，所述量子点层的另一侧由近至远依次设置有第二高阻隔膜、第二AR涂层、第二SiO涂层和第二C3N4涂层；所述的量子点层由若干交替分布且均匀间隔分散的第一量子点和第二量子点组成。
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