[发明专利]用于处理基板的方法和设备

摘要

提供一种用于处理基板的方法和设备。在一些实施方式中，一种处理设置于处理腔室中的基板的方法包括：在基板上执行处理，所述基板设置于处理腔室中，所述处理腔室具有基板支撑环和反射板，所述基板支撑环配置成支撑所述基板，所述反射板设置成接近所述基板的背侧；在所述基板上执行所述处理期间，经由一个或更多个通孔提供第一气体至所述基板的背侧，所述第一气体包括含氧气体或含氮气体之一，所述通孔设置于所述反射板中；以及将所述处理腔室维持在第一压力和第二压力下，所述第一压力接近所述基板的顶表面且所述第二压力接近所述基板的底表面，其中所述第一压力大于所述第二压力，而足以在处理期间防止所述基板从所述基板支撑环移位。

主权项

一种用于处理基板的设备，所述设备包括：处理腔室，所述处理腔室具有基板支撑环和反射板，所述基板支撑环配置成支撑基板，所述反射板设置成接近所述基板的背侧，所述反射板具有多个通孔；其中设置于所述反射板中的所述多个通孔中的至少一个通孔为入口，所述入口用以提供第一气体至接近所述基板的背侧表面的区域；以及其中设置于所述反射板中的所述多个通孔中的至少一个通孔为出口，所述出口用以产生第一气体流，所述第一气体流流出所述基板的所述背侧表面。