[发明专利]光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法

摘要

本发明的课题在于，提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法，所述基板清洗装置在进行清洗处理时，可以防止异物附着在基板上。为了解决上述课题，本发明提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备保持构件，其只保持基板的端面；旋转机构，其使该保持构件旋转；以及，喷嘴，其向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述基板清洗装置的特征在于，至少一个所述保持构件的表面具有导电性，该具有导电性的保持构件接地。

主权项

一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，只保持基板的端面；旋转机构，使所述保持构件旋转；以及，喷嘴，向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述清洗装置的特征在于，至少一个所述保持构件的表面具有导电性，所述具有导电性的保持构件接地。