[发明专利]光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法

权利要求书

1.一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，只保持基板的端面；旋转机构，使所述保持构件旋转；以及，喷嘴，向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述清洗装置的特征在于，

至少一个所述保持构件的表面具有导电性，所述具有导电性的保持构件接地。

2.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，将所述液体供给到所述基板的旋转中心部分。

3.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述基板的旋转速度为30rpm以上且1500rpm以下。

4.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述基板为方形基板。

5.如权利要求4所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述保持构件只保持所述方形基板的角部。

6.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，从所述喷嘴供给的液体为清洗液，利用所述清洗液对所述基板进行清洗处理。

7.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述基板为非导体。

8.如权利要求1所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述基板为玻璃基板。

9.如权利要求1至8中任一项所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，其中，所述液体为非导体。

10.一种光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，利用保持构件只保持基板的端面，通过使所述保持构件旋转来使所述基板旋转，并向所述基板的至少表面侧供给液体，使所述液体遍布于所述基板上以清洗所述基板，所述基板清洗方法的特征在于，

将至少一个所述保持构件的表面设为具有导电性，并将所述具有导电性的保持构件设为接地。

11.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述液体供给到所述基板的旋转中心部分。

12.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述基板的旋转速度设为30rpm以上且1500rpm以下。

13.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述基板设为方形基板。

14.如权利要求13所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，利用所述保持构件只保持所述方形基板的角部。

15.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述液体设为清洗液，利用所述清洗液对所述基板进行清洗处理。

16.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述基板设为非导体。

17.如权利要求10所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述基板设为玻璃基板。

18.如权利要求10至17中任一项所述的光掩模相关基板所使用的基板清洗方法，其中，将所述液体设为非导体。