[发明专利]光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种对光掩模相关基板进行清洗处理的基板清洗装置以及基板清洗方法。

背景技术

以往，作为对光掩模相关基板进行清洗的装置，已知有回旋方式的基板清洗装置。

这种基板清洗装置可以通过保持构件将基板设置在保持台上，并且使保持的基板旋转，并向其旋转中心供给所需要的液体，来对基板进行清洗。

对基板进行清洗后，利用使保持台以高速旋转而产生的离心力对基板进行回旋干燥。回旋干燥后，使保持台的旋转停止，从保持台搬出基板。

一般来说，使基板旋转以获得离心力时，圆形基板稳定，但半导体基板、液晶显示面板用玻璃基板、半导体制造装置用掩模基板等方形固体基板(以下称作方形基板)不稳定。因此，当方形基板又薄又轻时，考虑以静电卡盘吸附背面等，通过在背面进行保持的机构加以保持来进行清洗的方法，以确实保持住方形基板。但是，特别是当方形基板为光掩模用基板等时，不能吸附背面。此时，由于方形基板可以利用保持构件来支持端面，因此主要通过保持方形基板的端面来使方形基板旋转。

一般来说，利用旋转的基板的离心力，并向其旋转中心部分供给液体，于是供给的液体以放射状扩散，由此使此液体遍布固体基板(以下只称作基板)上，在这种基板清洗方法中，想方法使颗粒不附着在基板上(专利文献1～4)。例如，在专利文献1中，公开有一种具有超纯水喷出喷嘴待机室的基板的清洗装置，所述超纯水喷出喷嘴待机室用于在利用超纯水清洗基板前后的待机过程中使超纯水喷出喷嘴待机，并且与基板清洗室之间以隔板相隔。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-043584号公报；

专利文献2：日本特开2008-130728号公报；

专利文献3：日本特开2009-021448号公报；

专利文献4：日本特开2010-091774号公报。

发明内容

此处，异物(液体飞溅到周围形成雾的状态和环境中的颗粒等的总称)附着在基板上的原因多种多样。一般认为例如由于基板的表面以高速进行旋转，而与环境(空气)产生摩擦并带电。带电的表面会吸引漂浮在周围的异物，被吸引的异物会附着在基板上、或异物混入到滴至基板上的液体中、或者引起静电破坏。

在光掩模胚的制造中，成膜前的清洗中的这种异物在成膜步骤中会成为各无机材料功能性膜中的异物。另外，在成膜后的清洗中会成为光掩模胚表面的异物，在抗蚀剂涂布步骤中会成为涂布的抗蚀剂中的异物。

其结果为，这些异物会成为光掩模胚的致命缺陷的可能性变高。

另外，静电破坏会破坏产生静电破坏的位置，成为缺陷。

因此，对于优选为无缺陷的光掩模胚等而言，在对该基板进行清洗时，特别希望防止异物附着和产生静电破坏的带电。

另外，只要供给的液体的电阻值较低即可，但多数情况下，供给的液体的电阻值较高(例如超纯水)，考虑含有气体或添加杂质以降低这种液体的电阻值，但气体和杂质会形成颗粒，因此不优选。

本发明是鉴于上述问题而完成，目的在于，提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置及基板清洗方法，所述基板清洗装置在进行清洗处理时，可以防止异物附着在基板上。

为了实现上述目的，本发明提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，其只保持基板的端面；旋转机构，其使该保持构件旋转；以及，喷嘴，其向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述基板清洗装置的特征在于，

至少一个所述保持构件的表面具有导电性，该具有导电性的保持构件接地。

如果是这种基板清洗装置，在进行基板清洗时，可以有效防止基板带电，防止异物附着在基板上。

另外，优选为，将所述液体供给到所述基板的旋转中心部分。

如果是这种基板清洗装置，可以向基板的整个面供给液体。

另外，所述基板的旋转速度也可以是30rpm以上且1500rpm以下。

如此一来，即便当基板以高速旋转时，如果是本发明的基板清洗装置，也可以防止异物附着在基板上。

另外，优选为，所述基板为方形基板。

本发明的基板清洗装置可以特别适用于清洗方形基板。

此时，优选为，所述保持构件只保持所述方形基板的角部。

如果是这种基板清洗装置，在供给的液体因离心力而扩散时，由于只在基板旋转的最外周端存在保持构件，因此即便供给的液体接触到保持构件，散布的异物再附着在基板上的可能性很小。