[发明专利]用于化学机械抛光的浆料组合物、其制法、抛光方法、制造半导体器件的方法和抛光设备有效
申请号: | 201610905553.0 | 申请日: | 2016-10-17 |
公开(公告)号: | CN106867411B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 金礼桓;白云揆;徐智训 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社;汉阳大学校产学协力团 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;B24B37/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 金拟粲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及用于化学机械抛光的浆料组合物、其制法、抛光方法、制造半导体器件的方法和抛光设备。用于化学机械抛光工艺的浆料组合物包括分散介质、和具有结合至其表面的NO |
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搜索关键词: | 用于 化学 机械抛光 浆料 组合 制法 抛光 方法 制造 半导体器件 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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