[发明专利]环管式低压化学气相沉淀腔

摘要

本发明涉及一种环管式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构，所述导气结构为一环形腔套，所述环形腔套的内壁安装有多根径向设置的导气管，所述支撑结构包括一支撑轴，所述支撑轴轴向设置于所述环形腔套中，支撑轴的周壁上借助卡夹夹持晶圆，所述导气管置于相邻的晶圆之间。本发明采用环状形的导气结构及置于该导气结构中的支撑轴，支撑轴采用放射方式固定晶圆，大大降低晶圆的支撑体积，减小整个沉淀腔的体积，并提高反应气体与晶圆的接触均匀度。

主权项

一种环管式低压化学气相沉淀腔，包括腔体(1)，所述腔体(1)中内置有导气结构(3)及用于支撑晶圆的支撑结构(2)，其特征在于：所述导气结构(3)为一环形腔套，所述环形腔套的内壁安装有多根径向设置的导气管(4)，所述支撑结构(2)包括一支撑轴，所述支撑轴轴向设置于所述环形腔套中，支撑轴的周壁上借助卡夹(5)夹持晶圆(6)，所述导气管(4)置于相邻的晶圆(6)之间。