[发明专利]阵列基板及其制备方法、液晶显示装置在审
| 申请号： | 201610823315.5 | 申请日： | 2016-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN106154669A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 文亮 | 申请（专利权）人： | 厦门天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 上海隆天律师事务所 31282 | 代理人： | 臧云霄;钟宗 |
| 地址： | 361101 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、液晶显示装置。阵列基板包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括有源层、源极、漏极和过孔，且所述漏极或所述源极具有位于所述过孔中的部分，还包括：第一遮光结构，所述第一遮光结构到所述衬底基板的距离小于所述过孔到所述衬底基板的距离，所述第一遮光结构在所述衬底基板上的垂直投影与所述过孔在所述衬底基板上的垂直投影具有重叠的区域，所述第一遮光结构用于减少从所述衬底基板一侧入射且照射到所述漏极或所述源极的光线。本发明的阵列基板及其制备方法、液晶显示装置，通过设置遮光结构，在不用加宽黑矩阵的情况下解决漏光的问题，具有较高的开口率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括有源层、源极、漏极和过孔，且所述漏极或所述源极具有位于所述过孔中的部分，其特征在于，还包括：第一遮光结构，所述第一遮光结构到所述衬底基板的距离小于所述过孔到所述衬底基板的距离，所述第一遮光结构在所述衬底基板上的垂直投影与所述漏极或所述源极在所述衬底基板上的垂直投影之间的距离小于或等于3微米。
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