[发明专利]具有混合型异质结构的图像传感器有效

专利信息
申请号: 201610809068.3 申请日: 2012-02-29
公开(公告)号: CN106449679B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: L.科斯洛夫斯基 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人: 黄隶凡;刘培培<国际申请>=<国际公布>
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种图像传感器结构提供了超过100dB的SNR,而不需要使用机械快门。用于有效像素传感器阵列的电路部件被分离并且被垂直地布置在混合芯片结构中的至少两个不同层中。顶层优选地使用低噪声PMOS制造工艺制造,并且包括用于每个像素的光电二极管和放大器电路。底层优选地使用标准CMOS工艺来制造,并且包括NMOS像素电路部件和信号处理所需的任何数字电路。与使用CMOS相比,通过在为形成低噪声像素优化的PMOS工艺中形成顶层,像素性能可以被大大地改善。
搜索关键词: 具有 混合 型异质 结构 图像传感器
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括:/nPMOS电路层,包括:/n第一阵列的像素元件;/n每个像素元件包括:/n钉扎光电二极管;和/n放大器,所述放大器包括P-FET晶体管;/n环绕所述第一阵列的第一外围电路(123、124);/nCMOS层,包括:/n第二阵列(181)的支持像素电路,所述支持像素电路包括全局快门采样和保持电路,所述支持像素电路包括N-FET晶体管;/n环绕所述第二阵列的第二外围电路(183、184),/n围绕所述第二阵列的数字电路环,/n其中所述采样和保持电路包括在所述CMOS层中形成的沟槽电容器,/n其中所述第二外围电路位于所述第二阵列与所述数字电路环之间。/n
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