[发明专利]键合设备及方法在审
申请号: | 201610790769.7 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN107785287A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 赵滨;霍志军;商飞祥 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68;H01L21/683 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种键合设备及方法,该键合设备包括真空腔,设置在所述真空腔内的用于承载第一基底的第一基底台和用于承载第二基底的第二基底台,所述第一基底台上设置有第一活化单元和第一对准单元;所述第二基底台上设置有第二活化单元和第二对准单元。活化单元用于对基底的键合面进行活化,对准单元用于识别基底上的标记进行定位。所述第一对准单元和所述第二对准单元根据定位信息对所述第一基底和所述第二基底进行对准,所述第二基底台垂向运动,键合所述第一基底与所述第二基底。即在同一个设备中完成活化、对准、键合三个工艺过程,进而消除了现有的封装工艺过程中容易发生污染等问题。 | ||
搜索关键词: | 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种键合设备,其特征在于,包括:真空腔;设置在所述真空腔内的用于承载第一基底的第一基底台和用于承载第二基底的第二基底台,所述第二基底台位于所述第一基底台上方,其承载面与所述第一基底台的承载面相对设置;所述第一基底台的两侧分别设有第一活化单元和第一对准单元,所述第一基底台在X‑Y平面进行扫描运动时,所述第一活化单元对所述第二基底的键合面进行活化,所述第一对准单元识别所述第二基底上的标记进行定位;所述第二基底台的两侧分别设有第二活化单元和第二对准单元,所述第二基底台在X‑Y平面进行扫描运动时,所述第二活化单元对所述第一基底的键合面进行活化,所述第二对准单元识别所述第一基底上的标记进行定位;所述第一对准单元和所述第二对准单元根据定位信息对所述第一基底和第二基底进行对准。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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