[发明专利]发光二极管与其制作方法有效
申请号: | 201610789116.7 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN106129202B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 陈立宜;张佩瑜;詹志辉;张俊仪;林师勤;李欣薇 | 申请(专利权)人: | 美科米尚技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/14 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 王正茂;丛芳 |
地址: | 萨摩亚阿庇亚*** | 国省代码: | 萨摩亚;WS |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种发光二极管与其制作方法,该发光二极管包含第一型半导体层、主动层、第二型半导体层以及至少一个电流控制结构。第一型半导体层具有第一区及第二区。第一区具有第一穿透位错密度。第二区具有第二穿透位错密度。第一穿透位错密度大于第二穿透位错密度。主动层连接于第一型半导体层。第二型半导体层连接于主动层。电流控制结构连接于第一型半导体层及第二型半导体层的其中至少一个。电流控制结构具有至少一个电流注入区域。第二区在电流控制结构的垂直投影与电流注入区域至少部分重叠。因此,主动层对应第二区处,是以较小的穿透位错密度形成,故可改善发光二极管的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 穿透位错 第一型半导体层 电流控制结构 发光二极管 主动层 第二型半导体层 电流注入区域 第一区 垂直投影 发光效率 制作 | ||
【主权项】:
一种发光二极管,其特征在于,包含:第一型半导体层,具有第一区及第二区,其中所述第一区具有第一穿透位错密度,所述第二区具有第二穿透位错密度,且所述第一穿透位错密度大于所述第二穿透位错密度;主动层,连接于所述第一型半导体层;第二型半导体层,连接于所述主动层;以及至少一个电流控制结构,连接于所述第一型半导体层及所述第二型半导体层中的至少一个,所述电流控制结构具有至少一个电流注入区域,其中所述电流注入区域允许载子通过,且所述第二区在所述电流控制结构的垂直投影与所述电流注入区域至少部分重叠。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美科米尚技术有限公司,未经美科米尚技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610789116.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于起重机的三维坐标定位系统
- 下一篇:光纤激光器