[发明专利]一种炉管的进气装置有效

专利信息
申请号: 201610770371.7 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106191990B 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 祁鹏;王智;苏俊铭 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种炉管的进气装置,包括:进气口,设于炉管工艺腔的侧壁下端,其连通外部反应气体管路;进气管,设于工艺腔内,其一端连接进气口,另一端封闭,进气管自下而上环绕工艺腔内的晶舟设置;多个喷嘴,沿进气管长度方向并面向晶舟均匀设置;工艺时,通过由进气口向进气管中通入反应气体,并由各喷嘴向晶舟喷射,使晶舟中的每层硅片都均匀接触到反应气体,同时,保持晶舟处于静止不动状态,以在保证产品厚度均匀性的同时,避免因晶舟旋转而带来颗粒污染。
搜索关键词: 一种 炉管 装置
【主权项】:
1.一种炉管的进气装置,其特征在于,包括:进气口,设于炉管工艺腔的侧壁下端,其连通外部反应气体管路;进气管,设于工艺腔内,其一端连接进气口,另一端封闭,所述进气管自下而上环绕工艺腔内的晶舟设置;多个喷嘴,沿进气管长度方向并面向晶舟均匀设置,所述喷嘴的喷口面向晶舟水平设置;抽气管,设于工艺腔的顶部,用于排出工艺后的残余气体;其中工艺时,通过由进气口向进气管中通入反应气体,并由各喷嘴向晶舟中的每层硅片喷射,使晶舟中的每层硅片都均匀接触到反应气体,同时,保持晶舟处于静止不动状态,以在保证产品厚度均匀性的同时,避免因晶舟旋转而带来颗粒污染。
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