[发明专利]一种硅片划痕抛光剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201610714353.7 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN106336813A | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 | 申请（专利权）人： | 安徽正田能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 安徽信拓律师事务所34117 | 代理人： | 张加宽 |
| 地址： | 239300 安徽省滁*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种硅片划痕抛光剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成乙酸异辛酯3‑5份、聚丙烯酰胺4‑6份、十二烷基苯磺酸钠6‑8份、硝基苯5‑7份、金刚石微粉10‑20份、三乙醇胺2‑4份、石蜡油12‑14份、水杨酸钠6‑8份、抗氧剂5‑7份、氧化镁1‑3份、硬脂酸2‑4份、云母粉2‑4份、空心玻璃微珠2‑4份、矿物油5‑7份、油酸三乙醇胺2‑4份、炭黑3‑5份、络合剂6‑8份、去离子水80‑100份。本发明的有益效果为本发明采用的原材料丰富廉价，制作工艺简便，适用于硅片的划痕修复，对硅片本身没有损伤，使用方便，效果显著，便于推广及使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 划痕 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硅片划痕抛光剂，其特征在于，由以下重量份的原料制成：乙酸异辛酯3‑5份、聚丙烯酰胺4‑6份、十二烷基苯磺酸钠6‑8份、硝基苯5‑7份、金刚石微粉10‑20份、三乙醇胺2‑4份、石蜡油12‑14份、水杨酸钠6‑8份、抗氧剂5‑7份、氧化镁1‑3份、硬脂酸2‑4份、云母粉2‑4份、空心玻璃微珠2‑4份、矿物油5‑7份、油酸三乙醇胺2‑4份、炭黑3‑5份、络合剂6‑8份、去离子水80‑100份。
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