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[发明专利]一种硅片加工废水用净化剂及其制备方法-CN201610714884.6有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C02F1/56 文献下载
摘要：一种硅片加工废水用净化剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成：蒙脱石15‑25份、熟石膏3‑5份、明矾15‑25份、氯化钙3‑5份、膨润土6‑8份、柠檬酸2‑4份、单宁6‑8份、大豆蛋白10‑20份、活性炭5‑7份、海藻酸8‑10份、硫酸亚铁2‑4份、氢氧化钠5‑7份、聚合氯化铝5‑7份、聚丙烯酰胺5‑7份、改性淀粉15‑25份、明胶80‑120份、磁土35‑45份。本发明的有益效果为：本发明采用的原材料丰富廉价，制作工艺简便，适用于硅片切割废水水体除污，对水体中的有机有害物、重金属消除快速彻底，靠物理化学反应转换，即是清除剂也是固化剂，从根本上控制消除水体污染物，效果显著。
一种硅片加工废水净化剂及其制备方法

[发明专利]一种单晶硅硅体切割切片机的清洗方法-CN201610714525.0有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：一种单晶硅硅体切割切片机的清洗方法，涉及硅材料加工技术领域，通过拆卸，清水冲洗，油液保护后，安装磨合，即可。本发明的有益效果为：本发明工艺流程简单，通过合理精细的清理方式，可以保证切片机的实际清理效果，保证了切片机的应用精度，保证了硅片切割中众，硅片切割后的平整度，效果显著。
一种单金硅硅体切割切片机清洗方法

[实用新型]单晶硅片专用超声清洗装置-CN201620923082.1有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：一种单晶硅专用超声清洗装置，该超声清洗装置包括清洗槽和与清洗槽相匹配的卡塞盒，所述清洗槽靠近上表面设置搁架，搁架将清洗槽分割成大小相等、彼此相邻的隔槽，隔槽下方彼此连通，所述卡塞盒形状与隔槽相匹配并可置于该隔槽内，卡塞盒内设置有隔层，卡塞盒底部镂空。通过将普通清洗槽分割成一个个彼此连通的隔槽，装有硅片的卡塞盒置于该隔槽内，从而能够对每一片硅片各面进行全方位清洗，不会因为硅片堆积而造成清洗死角。
单晶硅专用超声清洗装置

[实用新型]一种硅片烘烤支架-CN201620923081.7有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种硅片烘烤支架，该支架包括侧板，支撑杆，定位杆；所述两侧板相向布置，在侧板靠近底端对称设置一对支撑孔，一对支撑杆两端分别插入所述支撑孔中，在支撑杆上设置卡口并向内凹陷，支撑孔上方偏离侧板中心位置两边分别设置定位孔，一对定位杆两端分别插入侧板两边的对称定位孔中。通过在侧板上分别设置支撑孔、定位孔，支撑杆、定位杆穿过该支撑孔、定位孔，从而将待烤硅片固定在该支架上，可以依据硅片大小灵活调整定位杆的位置，以适应不同尺寸硅片。
一种硅片烘烤支架

[实用新型]一种集中沥水型单晶硅硅片-CN201620929113.4有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： H01L31/0352 文献下载
摘要：一种集中沥水型单晶硅硅片，涉及硅片加工技术领域，主体为一硅片本体，其特征在于所述的硅片本体上设置有若干凹形流道，所述的凹形流道的端部设置有弧形流道，所述的弧形流道一端延伸于硅片本体的底部边缘处。本实用新型的有益效果是本实用新型设计新颖，结构简单，通过在硅片本身进行流道设置，方便了雨水的集中，进行集中排出，避免雨水散落于硅片上造成损伤，效果显著，便于推广及使用。
一种集中沥水单晶硅硅片

[实用新型]一种用于硅片成品存放装置-CN201620931651.7有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B65D25/00 文献下载
摘要：一种用于硅片成品存放装置，涉及硅片加工技术领域，主体为一敞口的盒体，所述的盒体底部设置为镂空的网状，所述的盒体侧壁内设置有卡槽，且盒体内设置有一条形板，所述的条形板后侧设置有插板，所述的插板可拆卸的安装于卡槽内，所述的条形板的前侧面设置有若干挡板，所述的挡板与挡板之间预留缝隙形成卡口。本实用新型的有益效果是本实用新型设计新颖，结构简单，通过灵活多变的卡口设计，方便了不同尺寸的硅片存放，同时结构安全，不易磨损硅片，更加合理有效，实用性好，便于推广及使用。
一种用于硅片成品存放装置

[实用新型]单晶硅片烘烤专用烤箱-CN201620925755.7有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：一种单晶硅片烘烤专用烤箱，包括箱体，所述箱体顶部设置有加热装置，加热装置上端有冷气进口，与冷气进口成对角线位置有热气出口，所述箱体两边分别为进气通道、排气通道，中空隔板将箱体分割成单独的隔层，加热装置下方的热气出口与所述进气通道连通，进气通道与中空隔板连通，在中空隔板下端面设置有出气孔，在隔层底部靠近排气通道处设置排气口，排气口与排气通道连通，排气通道上端为盲端，下端出口与排气装置连接。通过使用经过加热的气体对硅片进行烘烤，使得硅片受热均匀，不会产生裂片，同时气体在隔层内循环可以带走粘附在硅片表面的脏污，保持隔层内的清洁。
单晶硅烘烤专用烤箱

[实用新型]一种硅片边角磨光器-CN201620925443.6有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：一种硅片边角磨光器，该磨光器包括磨盘，底板，第一电机，第二电机；所述底板上设置滑槽，转轴穿过所述滑槽，所述磨盘位于滑槽正上方，转轴一端穿过磨盘中心，另一端穿过位于滑槽内的轴承并与位于底板下方的第一电机连接，所述轴承侧面与丝杆固定连接，丝杆另一端与位于底盘左侧的第二电机套筒连接。通过在底板下方、左侧分别设置第一电机、第二电机，使得磨盘在转动的同时可以在水平方向上移动，从而方便的对硅片边角进行打磨，可以根据硅片大小和需打磨厚度自由调节磨盘水平位移，与常规磨光器相比更为灵活、简单易用。
一种硅片边角磨光

[实用新型]硅片打磨用底盘-CN201620923831.0有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：一种硅片打磨用底盘，包括底盘本体，在所述底盘本体上设置有凹槽，硅片置于凹槽内，所述凹槽内安装有托架，所述托架呈T形，一端为圆盘面，另一端为直线端,直线端穿过底盘本体并可在凹槽内上下移动。通过在底盘本体的凹槽内设置一上下移动的托架，依据需要打磨厚度调整托架在凹槽内的高度，不需频繁的更换底盘，进一步在托架内设置通孔并与真空装置连接，可防止打磨过程中可能出现的硅片位置滑移。
硅片打磨底盘

[实用新型]硅棒切割装置-CN201620923263.4有效
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：一种硅棒切割装置，该切割装置包括主动滚筒，第一从动滚筒，第二从动滚筒，切割刀，滑竿；所述第一从动滚筒、第二从动滚筒分别位于主动滚筒上方两侧并成对称分布，切割刀缠绕在主动滚筒、第一从动滚筒、第二从动滚筒外圆周上，所述主动滚筒、第一从动滚筒、第二从动滚筒中心分别穿过滑竿并可沿滑竿在水平位置上滑动，从而带动切割刀滑动在纵向上对硅棒进行切割。通过将主动滚筒、第一从动滚筒、第二从动滚筒中心分别穿过滑竿并沿滑竿在水平位置上滑动，从而保持硅棒不动利用切割装置的移动来对硅棒进行纵向切割，避免了移动硅棒所带来的诸多不便。
切割装置

[发明专利]一种硅片加工用胶水预分解剂其制备方法-CN201610714352.2在审
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：一种硅片加工用胶水预分解剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成变压器油60‑80份、丙酮溶液50‑60份、甲苯6‑8份、汽油8‑10份、麻油6‑8份、醋酸乙酯15‑25份、酒石酸5‑7份、硫酸钠10‑12份、磨粉组合物8‑10份。本发明的有益效果是本发明配方选取科学合理，选用的原料均为廉价易得的产品，制备出胶水预分解剂，可以在除胶之前进行胶水预处理，是的胶水软化并分解，然后再次进行相应的除胶处理，更加快捷简单，除胶彻底，便于推广及使用。
一种硅片工用胶水分解制备方法

[发明专利]一种硅片切割用易分解型切削液的制备方法-CN201610714957.1在审
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C10M169/04 文献下载
摘要：一种硅片切割用易分解型切削液，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成石蜡基油60‑80份、八角油6‑8份、桉树油3‑5份、硝酸钾5‑7份、硝酸钠2‑4份、三乙醇胺1‑3份、甘油2‑4份、聚乙二醇1‑3份、蓖麻油酸1‑3份、十二烷酸2‑4份、表面活性剂2‑4份、氢氧化钠1‑3份、硅酸钠2‑4份、链烷醇酰胺2‑4份、硼酸脂2‑4份、二氯甲烷6‑8份、三氯乙烯5‑7份、硅粉组合物8‑10份。本发明的有益效果是本发明选用的原料均为廉价易得的产品，制备出的切削废液，颜色透明，不遮挡切割视线，内部本身含有的分解组分，可以对切削液进行预先分解，不会强力的附着于硅片表面，解决的切削废液附着力强的问题，便于后续硅片的清洗，同时环保健康，便于推广及使用。
一种硅片切割分解切削制备方法

[发明专利]一种用于硅片清洗的混合型超声波清洗剂-CN201610714717.1在审
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C11D1/22 文献下载
摘要：一种用于硅片清洗的混合型超声波清洗剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成丙醇52‑54份、苯酚10‑20份、胶体粒子5‑7份、氯化亚锡6‑8份、抗坏血酸6‑8份、乙酸钠2‑4份、腐植酸钠2‑4份、三聚磷酸钠3‑5份、六偏磷酸钠2‑4份、表面活性剂5‑7份、拉丝粉6‑8份、滑石粉3‑5份、去离子水260‑270份。本发明的有益效果是本发明制备方法简单，配方合理，制备的清洗剂，配合超声波清洗技术，能高效去除附着硅片上的各种污垢，同时清洗剂为中性温和型，有效的呵护硅片表壁不受损伤，使用效果良好，不会对硅片造成腐蚀，无残留，无污染，清洗效果显著，原料易得，成本低下。
一种用于硅片清洗混合超声波洗剂

[发明专利]一种硅片表面污渍分解剂及其加工方法-CN201610715997.8在审
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C11D1/83 文献下载
摘要：一种硅片表面污渍分解剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成二甲苯60‑80份、醋酸丁酯3‑5份、阻聚剂6‑8份、蔗糖酯5‑7份、腐殖酸6‑8份、丁二酰亚胺2‑4份、氢氧化钠6‑8份、白炭黑2‑4份、木质素硫酸钠5‑7份、柠檬酸钠5‑7份、亚硫酸钠5‑7份、丙烯酸月桂醇酯5‑7份、木质素6‑8份、玉米肽3‑5份、去离子水800‑850份。本发明的有益效果是本发明制备方法简单，配方合理，制备的分解剂直接作用于硅片表面，可以将硅片表面附着的油脂污渍进行预先分解，便于后续超声波清洗，方便了后续轻易除污，避免顽固污渍，同时性能温和，不会造成硅片腐蚀，安全便捷。
一种硅片表面污渍分解及其加工方法

[发明专利]一种硅片加工用胶水清除剂及其制备方法-CN201610715999.7在审
发明人：吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 -专利权人：安徽正田能源科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C11D7/44 文献下载
摘要：一种硅片加工用胶水清除剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成松节油15‑25份、松香水15‑25份、煤油20‑30份、甲苯6‑8份、二甲苯2‑4份、乌洛托品3‑5份、草酸6‑8份、羟甲基纤维素8‑10份、海泥皂素6‑8份、吖啶黄3‑5份、草甘膦增效剂2‑4份、三羧基三乙胺6‑8份、二乙醇胺2‑4份、催化剂6‑8份。本发明的有益效果是本发明配方选取科学合理，选用的原料均为廉价易得的产品，制备出的切除胶剂，性能温和，应用于硅片除胶，不会对硅片本身造成物理伤害和化学腐蚀，安全彻底，同时环保健康，便于推广及使用。
一种硅片工用胶水清除及其制备方法

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