[发明专利]薄膜晶体管、其制备方法及显示装置有效
| 申请号： | 201610698433.8 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN106229344B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 秦纬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/423 | 分类号： | H01L29/423;H01L21/336;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及晶体管领域，本发明提供了一种薄膜晶体管其制备方法，显示基板及显示装置。所述薄膜晶体管包括：衬底、栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极和漏极；所述栅极朝向所述半导体层的一侧具有粗糙的表面。由于栅极表面的凹凸不平，使得反射到栅极表面的光线不会再进行反射，或者直接散射到其他方向，从而使得背光源的入射光线无法再通过连续反射照射到半导体层上，减少半导体层被光照射的频率，稳定性得到提升。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜晶体管，包括：衬底、栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极和漏极；其特征在于，所述栅极朝向所述半导体层的一侧具有粗糙的表面，所述栅极和所述栅极绝缘层之间还设置有缓冲层；所述粗糙的表面的粗糙度为20～100nm。
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