[发明专利]具有沟槽绝缘场板和金属场板的横向高压集成器件有效
申请号: | 201610638717.8 | 申请日: | 2016-08-05 |
公开(公告)号: | CN106571393B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 朴圣根 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士系统集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 王建国;许伟群 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种高压集成器件包括:源极区和漏极区,设置在半导体层内并且彼此间隔开;漂移区,设置在半导体层内并且包围漏极区;沟道区,限定在半导体层内并且在源极区与漂移区之间;沟槽绝缘场板,设置在漂移区内;凹陷区,设置在沟槽绝缘场板内;金属场板,设置在沟槽绝缘场板之上,并且填充凹陷区;栅绝缘层,设置在沟道区之上,并且延伸在漂移区之上和沟槽绝缘场板之上;以及栅电极,设置在栅绝缘层之上。 | ||
搜索关键词: | 具有 沟槽 绝缘 金属 横向 高压 集成 器件 | ||
【主权项】:
一种高压集成器件,包括:源极区和漏极区,设置在半导体层内并且彼此间隔开;漂移区,设置在半导体层内并且包围漏极区;沟道区,限定在半导体层内并且在源极区与漂移区之间;沟槽绝缘场板,设置在漂移区内;凹陷区,设置在沟槽绝缘场板内;金属场板,设置在沟槽绝缘场板之上,并且填充凹陷区;栅绝缘层,设置在沟道区之上,并且延伸在漂移区之上和沟槽绝缘场板之上;以及栅电极,设置在栅绝缘层之上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士系统集成电路有限公司,未经爱思开海力士系统集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610638717.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类