[发明专利]一种改善多孔薄膜材料紫外处理均匀性的装置及方法在审
| 申请号： | 201610584922.0 | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN106169433A | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 易海兰;雷通;周海锋 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善多孔薄膜材料紫外处理均匀性的装置及方法，该装置包括平行放置于晶圆(6)上方的两根紫外灯管(1)，灯管(1)在灯罩(2)的带动下进行旋转，所述晶圆(6)与紫外灯管(1)之间设有总成组合型结构的透明窗口(3)，所述透明窗口(3)的中心部分为凹形透镜(4)，外圈为平板透镜(5)，利用中心部分的该凹形透镜(4)对投射光的发散作用，使中心区域内的紫外辐照度减弱，本发明可以提高晶圆上的紫外辐照均匀性，最终实现多孔低k值薄膜均匀性的提升，有利于其作为集成电路介电层的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 多孔 薄膜 材料 紫外 处理 均匀 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种改善多孔薄膜材料紫外处理均匀性的装置，包括平行放置于晶圆(6)上方的两根紫外灯管(1)，灯管(1)在灯罩(2)的带动下进行旋转，其特征在于：所述晶圆(6)与紫外灯管(1)之间设有总成组合型结构的透明窗口(3)，所述透明窗口(3)的中心部分为凹形透镜(4)，外圈为平板透镜(5)，利用中心部分的该凹形透镜(4)对投射光的发散作用，使中心区域内的紫外辐照度减弱。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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