[发明专利]显示器的阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610563498.1 申请日: 2016-07-18
公开(公告)号: CN106158739B 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 陈泓旭;陈文斌;陈登科;陈祖伟;陈国光 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;许志影
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种显示器的阵列基板的制造方法。此方法包含在第一基板上形成第一堤材料层,其中第一堤材料层的材料包含疏水性材料;图案化第一堤材料层以形成具有至少一第一凹部的第一堤;在形成第一堤的图案化步骤之后,在第一堤上以及第一凹部内形成第一电极;以及在第一电极上形成色层。
搜索关键词: 显示器 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造阵列基板的方法,其特征在于,包含:形成一驱动薄膜晶体管在一第一基板上;在该驱动薄膜晶体管上形成一第一堤材料层,其中该第一堤材料层的一材料包含疏水性材料;图案化该第一堤材料层以形成具有至少一第一凹部以及一接触孔的一第一堤,该接触孔位于该第一凹部中,其中该至少一第一凹部对应至一子像素区,该至少一第一凹部连接该接触孔,该接触孔曝露该驱动薄膜晶体管的源极的一部分;在图案化该第一堤材料层以形成该第一堤的步骤之后,于该第一堤上及该第一凹部内形成一第一电极,其中该第一电极的一部分位于该接触孔中以电连接该驱动薄膜晶体管;于该第一电极上、该接触孔中以及该第一凹部内形成一第二堤材料层,其中该第二堤材料层的一材料包含亲水性材料;图案化该第二堤材料层以形成一第二堤,该第二堤的厚度为3μm至5μm;以及藉由喷墨印刷制程于该第一电极上以及该第二堤上形成一色层并接触该第一堤以及该第二堤。
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