[发明专利]等离子体处理装置和喷淋头有效
| 申请号： | 201610537014.6 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN106340434B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 南雅人;佐藤亮;佐佐木芳彦;边见笃 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;王雪燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种对等离子体腐蚀的耐久性良好的喷淋头。等离子体处理装置(11)中设置的喷淋头(22)包括：基材(60)，其包括用于对腔室(20)内排出处理气体的气体排出孔(40)、以及形成于气体排出孔(40)的气体排出口一侧的凹部；和由陶瓷或不锈钢构成，固定于基材(60)的凹部中的圆筒状的套管，采用由耐等离子体膜(63)将套管的表面和基材(60)的配置有套管的面覆盖的结构。在使用陶瓷套管(61)的情况下，在基材(60)的等离子体生成空间(S)一侧的面与耐等离子体膜(63)之间设置基底膜(62)。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 喷淋 | ||
【主权项】：
1.一种设置在等离子体处理装置中的喷淋头，其特征在于：所述喷淋头包括：基材，其由铝构成，包括气体排出孔，所述气体排出孔具有位于所述等离子体处理装置的等离子体生成空间侧的气体排出口，从所述气体排出口排出处理气体，所述基材还包括形成于所述气体排出孔的所述气体排出口一侧的凹部；由不锈钢构成，固定于所述凹部中的圆筒状的套管；和将所述套管的表面和所述基材的配置有所述套管的面覆盖的耐等离子体膜。
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