[发明专利]一种量子点彩膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610513686.3 申请日: 2016-07-04
公开(公告)号: CN106129261B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 陈亚文 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种量子点彩膜及其制备方法。所述量子点彩膜的制备方法包括:提供一透明基板,在基板上依次制备有机薄膜和第一单色的光致发光量子点薄膜,其中,有机薄膜由含C‑H键的透明有机物沉积形成,用于形成光致发光量子点薄膜的光致量子点为表面采用有机基团修饰的量子点;利用掩膜对光致发光量子点薄膜进行HHIC处理,使得未掩盖部分的光致量子点之间、光致量子点与有机薄膜之间发生交联;对经过HHIC处理后的光致光量子点薄膜进行冲洗处理,去除没发生交联的光致量子点,得到图案化的光致量子点薄膜;重复沉积光致发光量子点薄膜、HHIC处理、冲洗处理操作,沉积第二单色和/或第三单色的光致量子点薄膜,得到量子点彩膜。
搜索关键词: 一种 量子 点彩膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种量子点彩膜的制备方法,包括以下步骤:提供一透明基板,在所述透明基板上依次制备有机薄膜和第一单色的光致发光量子点薄膜,其中,所述有机薄膜由含C‑H键的透明有机物沉积形成,且所述透明有机物不溶于冲洗处理的溶剂,用于形成所述光致发光量子点薄膜的光致量子点为表面采用有机基团修饰的量子点;利用掩膜对所述光致发光量子点薄膜进行HHIC处理,使得未掩盖部分的所述光致量子点之间、所述光致量子点与所述有机薄膜之间发生交联;对经过HHIC处理后的所述光致发光量子点薄膜进行冲洗处理,去除没发生交联的光致量子点,得到图案化的量子点薄膜;重复沉积光致发光量子点薄膜、HHIC处理、冲洗处理操作,沉积第二单色和/或第三单色的光致量子点薄膜,得到量子点彩膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610513686.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top