[发明专利]一种量子点彩膜及其制备方法有效
申请号: | 201610513686.3 | 申请日: | 2016-07-04 |
公开(公告)号: | CN106129261B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种量子点彩膜及其制备方法。所述量子点彩膜的制备方法包括:提供一透明基板,在基板上依次制备有机薄膜和第一单色的光致发光量子点薄膜,其中,有机薄膜由含C‑H键的透明有机物沉积形成,用于形成光致发光量子点薄膜的光致量子点为表面采用有机基团修饰的量子点;利用掩膜对光致发光量子点薄膜进行HHIC处理,使得未掩盖部分的光致量子点之间、光致量子点与有机薄膜之间发生交联;对经过HHIC处理后的光致光量子点薄膜进行冲洗处理,去除没发生交联的光致量子点,得到图案化的光致量子点薄膜;重复沉积光致发光量子点薄膜、HHIC处理、冲洗处理操作,沉积第二单色和/或第三单色的光致量子点薄膜,得到量子点彩膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 量子 点彩膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种量子点彩膜的制备方法,包括以下步骤:提供一透明基板,在所述透明基板上依次制备有机薄膜和第一单色的光致发光量子点薄膜,其中,所述有机薄膜由含C‑H键的透明有机物沉积形成,且所述透明有机物不溶于冲洗处理的溶剂,用于形成所述光致发光量子点薄膜的光致量子点为表面采用有机基团修饰的量子点;利用掩膜对所述光致发光量子点薄膜进行HHIC处理,使得未掩盖部分的所述光致量子点之间、所述光致量子点与所述有机薄膜之间发生交联;对经过HHIC处理后的所述光致发光量子点薄膜进行冲洗处理,去除没发生交联的光致量子点,得到图案化的量子点薄膜;重复沉积光致发光量子点薄膜、HHIC处理、冲洗处理操作,沉积第二单色和/或第三单色的光致量子点薄膜,得到量子点彩膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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