[发明专利]一种干涉式微观形貌测量系统及方法

摘要

本发明提供的一种干涉式微观形貌测量系统，只需提供照明系统、待测工件、成像系统以及信号处理组件，并在该装置中添加一参考反射镜即可，不涉及很复杂的透镜组系统，消除了复杂透镜组对视场大小的约束，从而使其适用于大测量视场。本发明还提供一种干涉式微观形貌测量方法，将照明系统提供的光源被分成两束，一束经过待测工件表面反射至成像系统，形成测量光路，另一束经过参考反射镜的反射到达成像系统与测量光相互干涉，形成干涉条纹，利用信号处理组件对该干涉条纹进行计算即可得到待测工件表面的形貌，因此本发明提供的测量方法，无需经过复杂的透镜组，即无需经过复杂的转换，即可根据干涉条纹计算待测工件的表面形貌，计算过程简便快捷。

主权项

1.一种干涉式微观形貌测量系统，其特征在于，依次包括一照明系统，用于提供照明光；一参考反射镜，其位于所述照明光的光路上，所述参考反射镜的镜面与待测工件的表面相对设置；一成像系统，其位于照明光分别从待测工件的表面和所述参考反射镜镜面反射后形成的两束反射光的交汇区域，用于接收照明光并成像；一信号处理组件，与所述成像系统电路连接，用于根据所述成像系统上的成像计算所述待测工件表面的微观形貌；在成像系统与所述待测工件之间设置一周期性参考物，在所述周期性参考物与所述成像系统之间设置一中继镜组，使得所述参考光和所述测量光经过所述周期性参考物和所述中继镜组后衍射至所述成像系统形成第二干涉条纹，所述信号处理组件根据所述成像系统上的所述第二干涉条纹进行分析计算；在所述周期性参考物与所述待测工件之间还设置一调制反射镜组，使得所述测量光经所述待测工件表面反射后经过所述调制反射镜组的调制后，与所述参考光交汇并共同经过所述周期性参考物、所述中继镜组后衍射形成第三干涉条纹，所述信号处理组件根据所述成像系统上的所述第三干涉条纹进行分析计算，得到所述待测工件的微观形貌。