[发明专利]用于浸没式光刻机的双工件台装置以及浸没式光刻机有效
| 申请号： | 201610510702.3 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107561866B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 丛国栋;郑清泉;方洁 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于浸没式光刻机的双工件台装置以及浸没式光刻机，所述双工件台装置包括：两个工件台，所述两个工件台各包括粗动模块、防撞模块和微动模块，所述防撞模块固定在所述粗动模块上；交换机构，所述交换机构设置在所述两个工件台中的一个或两者的防撞模块上并且包括交换桥板和升降机构，所述升降机构能够将所述交换桥板从初始位置转到工作位置，使得在双工件台交换时交换桥板位于两个工件台的微动模块之间并且其顶表面与两个工件台的微动模块的顶表面基本处于同一平面内。本发明避免了交换机构对工件台的微动模块上的长条镜的遮蔽并且改善了双台交换时浸没液场的维持。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 浸没 光刻 双工 装置 以及 | ||
【主权项】：
1.一种用于浸没式光刻机的双工件台装置，其特征在于，所述双工件台装置包括：两个工件台，所述两个工件台各包括粗动模块、防撞模块和微动模块，所述粗动模块设置在所述微动模块下方并且用于移动所述微动模块，所述防撞模块固定在所述粗动模块上；交换机构，所述交换机构设置在所述两个工件台中的一个或两者的防撞模块上并且包括交换桥板和升降机构，所述升降机构能够将所述交换桥板从第一位置转到第二位置，其中在所述第一位置，所述交换桥板位于其所在的工件台的微动模块和防撞模块之间或位于所述防撞模块的下方，在所述第二位置，所述交换桥板位于所述两个工件台的微动模块之间；所述升降机构包括动力单元和第一铰链，所述动力单元与所述第一铰链设置在所述防撞模块上并且位于所述防撞模块上方的微动模块两侧。
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