[发明专利]一种含卤素吡唑甲腈衍生物的合成方法有效
申请号: | 201610477891.9 | 申请日: | 2016-06-26 |
公开(公告)号: | CN106478508B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 冯美丽;李宏举;胡志全;王凤云 | 申请(专利权)人: | 江苏中旗科技股份有限公司 |
主分类号: | C07D231/14 | 分类号: | C07D231/14 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平;吕鹏涛 |
地址: | 210047 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种含卤素吡唑甲腈衍生物的合成方法,式(1)所示的二烷基丙烯腈与式(2)所示的羧酸在卤化剂和有机碱的存在下进行酰基化反应,得到式(3)所示的2‑酰基‑1‑氨基丙烯腈,再与式(4)所示的取代肼在碱性条件下进行环化反应,得到式(5)所示的吡唑甲腈衍生物;本法能够高收率的合成着色少的2‑酰基‑1‑氨基丙烯腈,以及高收率高选择性的合成着色少的1,3‑二取代吡唑‑4‑甲腈,产物中的1,5‑二取代吡唑‑4‑甲腈异构体含量明显降低。 |
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搜索关键词: | 一种 卤素 吡唑 衍生物 合成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含卤素吡唑甲腈衍生物的合成方法,其特征在于式(1)所示的二烷基丙烯腈与式(2)所示的羧酸在卤化剂和有机碱的存在下进行酰基化反应,得到式(3)所示的2‑酰基‑1‑氨基丙烯腈,再与式(4)所示的取代肼在碱性条件下进行环化反应,得到式(5)所示的吡唑甲腈衍生物;
其中,R1、R2、R3分别独立地为C1~10烷基或C1‑10卤代烷基,R4为C1‑10烷基、C1‑10卤代烷基、C1‑4烷氧基取代的C1‑10烷基、C1‑4卤代烷氧基取代的C1‑10烷基、C1‑4烷硫基取代的C1‑10烷基、C3‑8环烷基、C3‑8卤代环烷基或芳基;所述卤代剂是固光或双光气。
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