[发明专利]一种内嵌双层膜的LNOI晶片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610474749.9 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN106098745B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 华平壤;陈朝夕 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/02
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 李素兰
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种内嵌双层膜的LNOI晶片及其制备方法,该晶体的整体结构自基底向上层依序包括:硅或铌酸锂基底(1)、二氧化硅缓冲层(2)、金电极层(3)、半导体有机高分子层(4)和铌酸锂薄膜层(5),所述金电极层(3)和所述半导体有机高分子层(4)为内嵌双层膜。与现有技术相比,本发明极大地降低了波导的损耗,波导性能优良;使LNOI材料形成电流回路起到了很重要的便利作用,显著提高了LNOI材料形成光学或微电子学器件的可行性;本发明将直接推动基于LNOI平台的集成光路和器件向实用化方向迈进,可为下一代光电混合集成芯片的研发提供支撑。
搜索关键词: 一种 双层 lnoi 晶片 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种内嵌双层膜的LNOI晶片,其特征在于,该晶片的整体结构自基底向上依序包括:硅或铌酸锂基底(1)、二氧化硅缓冲层(2)、金电极层(3)、半导体有机高分子层(4)和铌酸锂薄膜层(5),所述金电极层(3)和所述半导体有机高分子层(4)为内嵌双层膜。
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