[发明专利]半加成法制作印制电路板的方法在审

专利信息
申请号: 201610375267.8 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN107295754A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 陈敬伦;郑明青 申请(专利权)人: 昆山群安电子贸易有限公司
主分类号: H05K3/10 分类号: H05K3/10;H05K1/09
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 215300 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半加成法制作印制电路板的方法,包括表面设置有银材料层的基板,银材料层的厚度为0.05~1微米;所述方法包括以下步骤钻孔,在设置有有银材料层的基板上钻通孔或者盲孔;导电化处理;压膜;第二次电镀,在含有干膜层的基板上电镀铜材料层;去膜,将基板表面的干膜层去除;通过金属蚀刻的方法,将没有被铜材料层覆盖的银材料层去除,露出基板的表面,得到电路板;在基板的表面电镀银材料层,银材料层的厚度在1微米以内,再进行开孔、压膜、电镀铜材料层以及金属刻蚀,银材料层的厚度小,使得金属导电层的厚度小,减小了电路板的厚度;且在刻蚀的时候可以根据需要选择刻蚀所用的溶剂,使得电路板上的金属导线可以做的更细。
搜索关键词: 成法 制作 印制 电路板 方法
【主权项】:
半加成法制作印制电路板的方法,其特征在于:包括表面设置有银材料层的基板,银材料层的厚度为0.05~1微米;所述方法包括以下步骤:a、钻孔,在设置有有银材料层的基板上钻通孔或者盲孔;b、在银材料层及通孔或者盲孔的孔壁进行导电化处理,形成通孔导电层;c、压膜,在基板的表面贴感光膜层,通过图形转移在基板上形成干膜层;d、第二次电镀,在含有干膜层的基板上电镀铜材料层;e、去膜,将基板表面的干膜层去除;f、通过金属蚀刻的方法,将没有被铜材料层覆盖的银材料层去除,露出基板的表面,得到电路板。
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