[发明专利]大尺寸掩膜基板的制作方法在审
| 申请号： | 201610353542.6 | 申请日： | 2016-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN105785710A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 唐军 | 申请（专利权）人： | 唐军 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60;G03F1/68 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人： | 郑学伟;叶利军 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪山新区坪*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种大尺寸掩膜基板的制作方法，包括：提供多条横向膜片和多条纵向膜片；将多条所述横向膜片与多条所述纵向膜片纵横交错布置，以形成矩阵分布多个方形的蒸镀孔，所述蒸镀孔具有加工余量；通过张紧机将纵横交错布置的所述横向膜片和所述纵向膜片张紧；采用焊接工艺将张紧后的所述横向膜片和所述纵向膜片相对焊接固定，以形成所述掩膜基板；对所述蒸镀孔进行精加工，使得所述蒸镀孔达到预定值。根据本发明提供的大尺寸掩膜基板的制作方法，可以形成大尺寸的掩膜基板，其取材方便，成本低，工艺简单，能够满足大尺寸显示器件的要求。此外，形成的掩膜基板上表面的平面度更高，达到更好的蒸镀效果，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 尺寸 掩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种大尺寸掩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供多条横向膜片和多条纵向膜片；将多条所述横向膜片与多条所述纵向膜片纵横交错布置，以形成矩阵分布多个方形的蒸镀孔，所述蒸镀孔具有加工余量；通过张紧机将纵横交错布置的所述横向膜片和所述纵向膜片张紧；采用焊接工艺将张紧后的所述横向膜片和所述纵向膜片相对焊接固定，以形成所述掩膜基板；对所述蒸镀孔进行精加工，使得所述蒸镀孔达到预定值。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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