[发明专利]一种工件研磨行为全局可控的抛光装置

摘要

本发明属于抛光技术领域，涉及一种工件研磨行为全局可控的抛光装置，它包括第一导轨及可沿该第一导轨往返滑行并受该第一导轨约束的第一平台、第二导轨及可沿该第二导轨往返滑行并受该第二导轨约束的第二平台、含有散粒状磨料的研磨抛光介质及盛装该研磨抛光介质的容器。与现有技术相比，本装置的最大特色在于采用导轨约束和可控电机的驱动方式来调控工件的抛光行为，同时结合自由散粒状磨料特有的研磨性质，籍此获得工件全局可控的研磨轨迹、研磨速度和研磨压力，不仅能够全局抛光异形工件的复杂表面，而且能够保证抛光质量的一致性；此外，抛光全程少用甚至弃用电解或化学的抛光手段，由此减少乃至避免了抛光作业对环境造成的电化学污染。

主权项

一种工件研磨行为全局可控的抛光装置，包括含有自由散粒状磨料的研磨抛光介质，和盛装该研磨抛光介质的容器，其特征在于：抛光装置还包括第一导轨及可沿该第一导轨滑行并受该第一导轨约束的第一平台、第二导轨及可沿该第二导轨滑行并受该第二导轨约束的第二平台、驱动第一平台并使该第一平台相对于第一导轨作往返运动的第一电机、驱动第二平台并使该第二平台相对于第二导轨作往返运动的第二电机、控制并协调第一电机及第二电机运转规律的控制器、用于安装工件并让工件探触到研磨抛光介质的工件挂板，其中所述第二导轨被紧固在第一平台上或者第二导轨与第一平台为一体结构制作，所述工件挂板与第二平台紧固连接或者工件挂板与第二平台为一体结构制作，被抛光的工件受到工件挂板的驱使而运动并产生相对于研磨抛光介质的研磨运动，所述容器内设置有分隔研磨抛光介质的格栅，所述格栅具有若干个隔离单元，被抛光的工件可探入格栅的隔离单元内并与该隔离单元中的研磨抛光介质发生研磨抛光运动，所述格栅的隔离单元只容纳一个被抛光工件，隔离单元设置有与其所容纳工件作平动研磨转动时形成的外包络面对应的分隔型面，而且该分隔型面完全包容该工件研磨抛光时的平动转动外包络面。