[发明专利]一种具有纳米级间隙的金属颗粒制造方法

摘要

本发明公开了一种具有纳米级间隙的金属颗粒制造方法，首先在弹性衬底上制备周期性金属颗粒，通过对弹性衬底的拉伸，改变衬底上相邻金属颗粒之间的间距，实现10nm及以下的纳米级金属间隙。本发明的制造方法通过对金属颗粒阵列的相对位置的调控，还可以实现对该结构透射、反射或吸收峰等光学模式的动态调谐，且具有低成本、高效率、可大批量生产同时精度高的优点。

主权项

一种具有纳米级间隙的金属颗粒制造方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一，制备具有纳米级平整度的弹性衬底；步骤二，在所述弹性衬底表面形成周期性排列的金属颗粒；步骤三，在弹性衬底的两侧分别向外施加拉力，在垂直于拉力的方向上金属颗粒间距减小，在一定拉伸长度下，在垂直于拉力的方向上相邻金属颗粒间距减小至10nm以下；其中，步骤二，在所述弹性衬底表面形成周期性排列的金属颗粒的方法为：21)对所述弹性衬底表面采用氧等离子体刻蚀进行改性处理，刻蚀功率为300‑600W，氧气流量为40‑90sccm，刻蚀时间为20‑60s；22)在改性后的弹性衬底表面涂覆光刻胶，进行烘烤处理，然后利用激光干涉曝光和显影，在光刻胶表面形成孔阵列；23)在步骤22)得到的样品表面，利用磁控溅射制备金属薄膜；24)剥离光刻胶及光刻胶上部的金属层，形成弹性衬底表面的周期性排列的金属颗粒。