[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法

摘要

本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。

主权项

抗蚀剂组合物，包括(A)化合物、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂系显影剂中的溶解性的树脂、和(C)光致产酸剂，具有式(1)的化合物(A)：其中R¹‑R⁴各自独立的为氢、羟基、或者直链、支化或环状的C₁‑C₂₀一价烃基，其可以含有杂原子，R¹‑R⁴可键合在一起以与它们结合的碳原子和任何插入的碳原子形成环，树脂(B)包含具有式(2)的重复单元和具有式(3)的重复单元：其中R^A为氢、氟、甲基或三氟甲基，Z^A为单键、亚苯基、亚萘基、或‑C(＝O)‑O‑Z'‑，Z'为直链、支化或环状的C₁‑C₁₀亚烷基，其可含有羟基部分、醚键、酯键或内酯环，或者亚苯基或亚萘基，X^A为酸不稳定基团，和Y^A为氢或者具有选自以下组中的至少一个结构的极性基团：羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环和羧酸酐。