[发明专利]双频电感耦合射频等离子体喷射沉积金刚石的方法有效
申请号: | 201610245107.1 | 申请日: | 2016-04-19 |
公开(公告)号: | CN105839071B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 陈广超;左勇刚;李佳君;白旸;刘浩;袁禾蔚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/505 |
代理公司: | 北京华谊知识产权代理有限公司11207 | 代理人: | 刘月娥 |
地址: | 100049 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种双频电感耦合射频等离子体喷射沉积金刚石的方法,属于金刚石气相沉积制备技术领域。利用双频电感耦合射频等离子体来沉积金刚石。将双频电感耦合射频放电激发的等离子体以喷射的方式掠射过衬底表面,通过调节高、低频率的频率比和功率比,以及各个气相参数实现金刚石的稳定制备。优点在于,摒弃了鞘气冷却方式,减少了耗气量,在近104Pa数量级压强条件下,保证了反应气体的高离化率和有效基元数量空间分布的高均匀性,制备了从纳米到微米多种形貌的金刚石晶体。 | ||
搜索关键词: | 双频 电感 耦合 射频 等离子体 喷射 沉积 金刚石 方法 | ||
【主权项】:
一种双频电感耦合射频等离子体喷射沉积金刚石的方法,在双频电感耦合射频放电等离子体喷射化学气相沉积系统中进行;其特征在于,采用氩气,氢气和甲烷混合气体为等离子体源气体,在混合气体中,氩气,氢气的流量分别为1‑5slm,0.2‑1slm,甲烷流量与氢气的流量比为1%‑8%,;射频电感耦合放电采用双频率激发和维持等离子体,总激发功率为1‑10KW,高频功率为500‑2000W,低频功率为2500‑10000W,高频率与低频率的频率比在3~4范围;激发出的等离子体炬以等离子体运动轴线与衬底法线夹角为60°~90°的掠射角掠过衬底表面;沉积系统中的背底真空为10‑2‑10‑1Pa,当工作气体通入后,首先高频放电激发等离子体起辉,然后升高气压至预定压强5000‑15000Pa,打开低频电源,加热维持等离子体;衬底以机械镶嵌或者真空钎焊的方式固定在具有水冷功能的基座上,衬底的尺寸为1‑6cm2,衬底边缘距等离子体发生器喷口的距离为0.5‑3.0cm,沉积过程中,衬底温度保持在850℃~1100℃之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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