[发明专利]一种基板真空干燥装置在审
| 申请号： | 201610232396.1 | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105710019A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 李志强;尹冬冬;余忠兴;成学佩;刘志 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/04 | 分类号： | B05D3/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板真空干燥装置，属于显示技术领域，其可解决现有的真空干燥装置在光刻胶干燥固化过程中易导致光刻胶厚度不均匀，造成显示异常的问题。本发明的基板真空干燥装置包括腔室，腔室包括用于供基板出入腔室的腔门，所述腔室还联通气体管道，所述腔室内设有支撑板，用于承载基板。使用时，将基板移置支撑板上，支撑板支撑基板，基板不会产生形变，能够有效避免在光刻胶在真空干燥过程中出现光刻胶厚度不均匀。本发明的基板真空干燥装置适用于生产不同尺寸、型号的显示产品的基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 干燥 装置 | ||
【主权项】：
一种基板真空干燥装置，包括腔室，所述腔室包括用于供基板出入腔室的腔门，所述腔室还联通气体管道，其特征在于，所述腔室内设有支撑板，用于承载基板。
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