[发明专利]一种基板真空干燥装置在审
申请号: | 201610232396.1 | 申请日: | 2016-04-14 |
公开(公告)号: | CN105710019A | 公开(公告)日: | 2016-06-29 |
发明(设计)人: | 李志强;尹冬冬;余忠兴;成学佩;刘志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B05D3/04 | 分类号: | B05D3/04 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 干燥 装置 | ||
技术领域
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种基板真空干燥装置。
背景技术
涂布机是用来将光刻胶均匀地涂布在基板的一种工艺设备,真空干燥装置是涂布机的重要组成部分之一。
现有的真空干燥装置,如图1所示,包括一腔室1,腔室1的一侧设有腔门11,腔室1内设有多个用于支撑基板5的支撑杆6,腔室1还联通有抽真空管2和进气管8。其中,基板5上侧涂布光刻胶后,在基板5下侧连接多个支撑杆6,打开腔门,将连接有支撑杆6的基板5由机械手送入腔室1,然后关闭腔门,抽真空,从而使光刻胶中的溶剂充分挥发,最终使光刻胶初步固化在基板5表面。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题:在整个干燥过程中,基板5一直由多个支撑杆6进行支撑,在没有支撑杆6的区域由于重力作用会出现下垂,从而在基板5支撑点处形成凸起,而且支撑杆6与基板5接触时间长,基板5的形变会在抽真空过程进一步加剧,使得基板5的接触位置处与其余位置处的光刻胶厚度不均匀,造成显示品质不良。为避免这一问题,通常支撑杆6必须支撑在基板5的空白区,即未做显示元件的位置处。这样当生产不同尺寸、型号的显示产品的基板5时,就需要调整支撑杆6的位置,不但给生产造成不便,而且一旦支撑杆6的位置调整错误,还会造成较大的损失。
发明内容
本发明针对现有的真空干燥装置在光刻胶干燥固化过程中易导致光刻胶厚度不均匀,造成显示异常的问题,提供一种基板真空干燥装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是:
一种基板真空干燥装置,包括腔室,所述腔室包括用于供基板出入腔室的腔门,所述腔室还联通气体管道,所述腔室内设有支撑板,用于承载基板。
优选的,所述气体管道包括抽气管道和通气管道,所述抽气管道用于将腔室内抽真空,所述通气管道用于给腔室通入气体。
优选的,所述支撑板连接第一驱动器,所述第一驱动器用于驱动支撑板移动。
优选的,所述第一驱动器为气缸。
优选的,所述支撑板上设有孔,所述孔用于容纳连结在基板上的支撑杆。
优选的,所述腔室内部对应气体管道的管口的位置处设有挡板,所述挡板的面积大于腔室内部气体管道的管口的面积。
优选的,所述气体管道联通至腔室的上壁,所述挡板与支撑板均平行于腔室的上壁设置,支撑板比挡板更远离腔室的上壁,且挡板与支撑板和上壁均不接触。
优选的,所述挡板与支撑板的面积均大于基板的面积。
优选的,所述挡板连接第二驱动器,用于驱动挡板移动。
本发明的基板真空干燥装置使用时,将基板移置支撑板上,支撑板可对基板各位置都进行支撑,故基板不会产生形变,能够有效避免在光刻胶在真空干燥过程中出现光刻胶厚度不均匀。本发明的基板真空干燥装置适用于生产不同尺寸、型号的显示产品的基板。
附图说明
图1为现有的基板真空干燥装置的结构示意图;
图2为本发明的实施例1的基板真空干燥装置的结构示意图;
图3为本发明的实施例2的基板真空干燥装置的一种结构的示意图;
图4为本发明的实施例2的基板真空干燥装置的另一种结构的示意图;
图5为本发明的实施例2的基板真空干燥装置的另一种结构的示意图;
其中,附图标记为:1、腔室;11、腔门;2、抽气管道;3、挡板;4、第一驱动器;42、第二驱动器;5、基板;6、支撑杆;7、支撑板;8、通气管道。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1:
本实施例提供一种基板真空干燥装置,如图2所示,包括腔室1,所述腔室1包括用于供基板5出入腔室1的腔门11,腔室1还联通气体管道,腔室1内设有支撑板7,用于承载基板5。
本实施例的基板真空干燥装置使用时,将基板5移置支撑板7上,支撑板7支撑基板5,基板5不会产生形变,能够有效避免在光刻胶在真空干燥过程中出现光刻胶厚度不均匀。本发明的基板5真空干燥装置适用于生产不同尺寸、型号的显示产品的基板5。
实施例2:
本实施例提供一种基板真空干燥装置,如图2-5所示,包括腔室1,所述腔室1包括用于供基板5出入腔室1的腔门11,腔室1还联通气体管道,腔室1内设有支撑板7,用于承载基板5。
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