[发明专利]一种基板真空干燥装置在审
申请号: | 201610232396.1 | 申请日: | 2016-04-14 |
公开(公告)号: | CN105710019A | 公开(公告)日: | 2016-06-29 |
发明(设计)人: | 李志强;尹冬冬;余忠兴;成学佩;刘志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B05D3/04 | 分类号: | B05D3/04 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 干燥 装置 | ||
1.一种基板真空干燥装置,包括腔室,所述腔室包括用于供基板出入腔室的腔门,所述腔室还联通气体管道,其特征在于,所述腔室内设有支撑板,用于承载基板。
2.根据权利要求1所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述气体管道包括抽气管道和通气管道,所述抽气管道用于将腔室内抽真空,所述通气管道用于给腔室通入气体。
3.根据权利要求1所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述支撑板连接第一驱动器,所述第一驱动器用于驱动支撑板移动。
4.根据权利要求3所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述第一驱动器为气缸。
5.根据权利要求3所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述支撑板上设有孔,所述孔用于容纳连结在基板上的支撑杆。
6.根据权利要求1所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述腔室内部对应气体管道的管口的位置处设有挡板,所述挡板的面积大于腔室内部气体管道的管口的面积。
7.根据权利要求6所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述气体管道联通至腔室的上壁,所述挡板与支撑板均平行于腔室的上壁设置,支撑板比挡板更远离腔室的上壁,且挡板与支撑板和上壁均不接触。
8.根据权利要求6所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述挡板与支撑板的面积均大于基板的面积。
9.根据权利要求6所述的基板真空干燥装置,其特征在于,所述挡板连接第二驱动器,用于驱动挡板移动。
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