[发明专利]四元硒化物非线性光学晶体及其制备方法和其用途有效

专利信息
申请号: 201610227756.9 申请日: 2016-04-13
公开(公告)号: CN105803531B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 刘毅;贾郁;刘畅;郑雪绒;吕达;赵震霆 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B1/00;G02F1/355
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司33200 代理人: 张法高
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种四元硒化物非线性光学晶体及其制备方法和用途。其化学式为ABSn2Se6,其中A为平衡阴离子骨架的碱金属Rb,Cs中的一种,B为ⅢA主族金属里Ga,In中的一种,属于三方晶系,R3空间群。采用真空高温固相法制得,以碱金属氯化物、镓单质(铟单质)、锡粉、硒粉为原料,在850℃条件下反应8‑12天,制备得到新颖结构的四元硒化物非线性光学晶体。本发明合成方法简单易行,原料成本低,反应条件温和。采用本方法制备的四元硒化物半导体材料,具有非线性光学信号,在非线性光学领域内如激光变频、远程传感等方面具有潜在的应用价值。
搜索关键词: 四元硒化物 非线性 光学 晶体 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
一种四元硒化物非线性光学晶体,其化学式为ABSn2Se6,其中A为平衡阴离子骨架的碱金属原子Rb, Cs中的一种,B为ⅢA主族金属里Ga, In中的一种,所述的四元硒化物非线性光学晶体属于三方晶系,R3空间群,该晶体具有非线性光学性能;所述的四元硒化物非线性光学晶体中:RbGaSn2Se6 、RbInSn2Se6 、CsGaSn2Se6 和CsInSn2Se6的能隙分别为1.77 eV、1.70 eV、1.87 eV和1.82 eV,属于半导体能隙范围。
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