[发明专利]一种具有高迁移率的非金属共掺杂ZnO透明导电薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610220587.6 申请日: 2016-04-09
公开(公告)号: CN105695947A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 朱丽萍;李琴;张翔宇 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种具有高迁移率的非金属共掺杂ZnO透明导电薄膜,该薄膜为生长于柔性衬底上的ZnO基薄膜,其化学组成为Zn1-x-yAxByO,其中0<x≦0.50,0<y≦0.40, A为氟、氯、硫、硒中的一种,B为硼、氢中的一种,且A和B的原子比例满足1<x:y≦10。制备该薄膜采用射频磁控溅射法,通过结合氢等离子处理和真空热退火的手段,从而制得导电性能良好的透明导电薄膜。本发明制备的薄膜结晶性能好,薄膜生长平整,光透过率在80%以上,电阻率可降至10-3数量级,方阻可达到81.9。可应用在太阳能电池前电极、薄膜晶体管、紫外探测器、透明显示屏等领域。
搜索关键词: 一种 具有 迁移率 非金属 掺杂 zno 透明 导电 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
具有高迁移率的非金属共掺杂ZnO透明导电薄膜,其特征在于,该薄膜为生长于柔性衬底上的ZnO基薄膜,其化学组成为Zn1‑x‑yAxByO,其中0<x≦0.50,0<y≦0.40, A为氟、氯、硫、硒中的一种,B为硼、氢中的一种,且A和B的原子比例满足1<x:y≦10。
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