[发明专利]湿法制程设备及其维护方法有效
申请号: | 201610154202.0 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105589233B | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 刑磊;马海买提 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种湿法制程设备及其维护方法,所述湿法制程设备包括:设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框;每一反应腔的上表面均设有开口,对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板;所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上,所述底边上设有多个相互平行的滑槽;将所述磁性盖板放置在滑槽内,并用顶边吸附住所述磁性盖板的边缘,进而所述磁性盖板能够沿所述滑槽滑动,通过将所述磁性盖板滑动至非工作区,能够避免磁性盖板占用工作区的空间,便于工作人员对设备进行维护,同时提升工作区的安全系数,避免维护人员受伤。 | ||
搜索关键词: | 湿法 设备 及其 维护 方法 | ||
【主权项】:
1.一种湿法制程设备,其特征在于,设N为大于1的正整数,所述湿法制程设备包括:设备本体(10)、设于设备本体(10)内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔(20)、及设于两行反应腔(20)之间的设备本体(10)上的滑动框(30);每一反应腔(20)的上表面均设有开口,对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板(21);所述滑动框(30)的底边(33)设于所述设备本体(10)的上表面上,所述底边(33)上设有多个相互平行的沿所述底边(33)的长度方向延伸的滑槽(34);所述滑动框(30)的顶边(31)具有磁性;所述滑动框(30)的两侧边(32)分别安装于设备本体(10)的两侧壁上;将所述磁性盖板(21)放置在滑槽(34)内,并用顶边(31)吸附住所述磁性盖板(21)的边缘,进而所述磁性盖板(21)能够沿所述滑槽(34)滑动;所述每一滑槽(34)的宽度均等于所述磁性盖板(21)的厚度,以卡合住所述磁性盖板(21)。
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