[发明专利]N型IBC电池结构及其制备方法在审
申请号: | 201610152526.0 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105576084A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 董鹏;郭辉;屈小勇;张玉明 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学;中电投西安太阳能电力有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种IBC电池结构及其制作工艺方法,主要解决现有技术制作IBC电池工艺复杂,制造成本高昂的问题。该N型IBC电池,包括减反层、硅片基体、掺杂层、钝化层及金属电极,其特征在于:减反层设在硅片基体的正面,硅掺杂层包括n+重掺杂层和p+重掺杂层,该n+重掺杂层和p+重掺杂层平行设在硅片基体的背面,钝化层设在n+重掺杂层和p+重掺杂层的上面;在n+重掺杂层、p+重掺杂层上引出金属电极至钝化层背面。本发明采用SiNx膜或叠层膜的减反层和钝化层简化了现有电池结构,提高了生产效率,减低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | ibc 电池 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种N型IBC电池,包括减反层、硅片基体、掺杂层、钝化层及金属电极,其特征在于:减反层设在硅片基体的正面,硅掺杂层包括n+重掺杂层和p+重掺杂层,该n+重掺杂层和p+重掺杂层平行设在硅片基体的背面,钝化层设在n+重掺杂层和p+重掺杂层的上面;在n+重掺杂层、p+重掺杂层上引出金属电极至钝化层背面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的