[发明专利]基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法

摘要

本发明提供一种能够抑制对基材的处理的均匀性下降且修正基材的位置偏移的基材处理装置、涂膜形成系统、基材处理方法以及涂膜形成方法。干燥装置(30A)对以卷对卷方式搬送的基材(5)进行干燥处理。干燥装置(30A)具有对基材(5)的一个主面进行干燥处理的多个表面干燥部(35)。在配置有多个表面干燥部(35)的干燥处理区间(12A)排列有多个倾动辊(331)。控制部(7)基于由位置检测器(51A)检测的基材(5)的在宽度方向上的位置，来控制倾动机构(41)，由此使各倾动辊(331)倾动来修正基材(5)的位置偏移。

主权项

一种基材处理装置，对通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材而在规定的搬送方向上连续被搬送的基材，进行规定处理，其特征在于，具有：处理部，对由搬送机构搬送的所述基材的两面中的至少一个主面进行规定处理；多个辊，在所述处理部进行所述规定处理的处理区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列，且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置，所述处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间；倾动机构，使所述多个辊中的2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿与所述基材的所述另一个主面交叉的方向移动；位置检测器，检测所述基材的在所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；控制部，基于由所述位置检测器检测的所述基材的位置，来控制所述倾动机构。