[发明专利]基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法在审
| 申请号： | 201610134262.6 | 申请日： | 2016-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN105977445A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 神田宽行 | 申请（专利权）人： | 株式会社思可林集团 |
| 主分类号： | H01M4/04 | 分类号： | H01M4/04;H01M4/139 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋晓宝;向勇 |
| 地址： | 日本国京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基材 处理 装置 方法 形成 系统 | ||
【说明书】：
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