[发明专利]蚀刻剂组合物、液晶显示器阵列基板制作方法和阵列基板

摘要

公开了蚀刻剂组合物、用于液晶显示器的阵列基板的制作方法和阵列基板。根据本发明，在制作阵列基板时，使铜基金属层能够被一步蚀刻，并且，当蚀刻厚金属层时，即使在增加加工片材数时，也能够控制侧面蚀刻并能够保持蚀刻速率。

主权项

1.用于蚀刻铜基金属层的蚀刻剂组合物，其包括：基于所述蚀刻剂组合物的总重量，5‑30wt％的过氧化氢(H₂O₂)，0.01‑5wt％的氟化合物，0.1‑5wt％的唑类化合物，0.5‑5wt％的分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物，0.1‑5wt％的酒石酸，0.1‑5wt％的磷酸盐化合物，0.001‑5wt％的多元醇表面活性剂，和余量的水，其中所述唑类化合物包括三唑类化合物和氨基四唑类化合物，其中所述铜基金属层包含铜的厚金属层，且所述铜的厚金属层具有或更大的厚度。