[发明专利]用于蚀刻含银薄层的蚀刻剂组合物和用其制造显示装置的阵列基板的方法有效
| 申请号： | 201610104627.0 | 申请日： | 2016-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN106011861B | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 沈庆辅;权玟廷;李昔准 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了用于蚀刻含银薄层的蚀刻剂组合物和用其制造液晶显示器的阵列基板的方法，所述蚀刻剂组合物包含硝酸铁、无机酸、乙酸和/或乙酸盐、腐蚀抑制剂、螯合剂、乙醇酸和水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 薄层 组合 制造 显示装置 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1.用于蚀刻含银薄层的蚀刻剂组合物，其包含：基于所述组合物的总重量，(A)1‑20wt％的硝酸铁；(B)2‑8wt％的选自硝酸、硫酸和盐酸的至少一种酸；(C)5‑15wt％的选自乙酸和乙酸盐的至少一种化合物；(D)0.1‑5wt％的腐蚀抑制剂；(E)0.1‑5wt％的螯合剂；(F)0.1‑2wt％的乙醇酸；和(G)余量的水，以及其中所述蚀刻剂组合物不含磷酸；其中所述蚀刻剂组合物用于蚀刻银或银合金的单层，或包括所述单层和氧化铟层的多层。
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