[发明专利]一种氧化钨薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610095559.6 申请日: 2016-02-22
公开(公告)号: CN105568341B 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 徐玄;顾进跃;顾伟华;李巧梅 申请(专利权)人: 深圳市威勒科技股份限公司
主分类号: C25D9/04 分类号: C25D9/04;C25D21/12
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 518000 广东省深圳市福田区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种氧化钨薄膜的制备方法,具体是将阴、阳极浸入电解液中,在电压作用下,电解液形成等离子体并沉积在电极表面,得到氧化钨薄膜。本发明通过温度控制或回流冷却装置控制电解槽内温度,能在常温常压下操作,具有工艺过程简单、生产成本低、易操作、易实现工业化生产等优点,既克服了物理方法要求真空条件、生产成本高的劣势,也克服了化学方法膜基结合力差、薄膜致密性差的缺点,其制备的薄膜与基体的结合力好,能大面积成膜,因而对处理工件的限制性少。
搜索关键词: 一种 氧化钨 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种氧化钨薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法为:将阴、阳极浸入电解液中,在电压作用下,电解液形成等离子体并沉积在电极表面,得到氧化钨薄膜,所述电解液含有无机添加剂和/或有机添加剂,所述无机添加剂是无机酸和/或无机盐;所述有机添加剂是柠檬酸、桂皮酸、十二烷基苯磺酸钠、苯甲酸钠和糖精中的至少一种,所述电压为500~1200V;所述阴、阳极间的电流为恒流电流,电流密度为500~1200mA/mm2,所述阴、阳极的面积比为1:1~2;所述阴、阳极的间距为6~15mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市威勒科技股份限公司,未经深圳市威勒科技股份限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610095559.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top