[发明专利]使用RF辐射的物体加工状态感测有效
申请号: | 201610086623.4 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN105722263B | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 莎伦·哈达德;阿夫纳·李伯曼;伊加尔·雅里;尤沃·本-海姆;马克西姆·布瑞森;艾利尔得·西尔科夫;阿米海·朗 | 申请(专利权)人: | 高知有限公司 |
主分类号: | H05B6/64 | 分类号: | H05B6/64;H05B6/68;H05B6/70 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 陆建萍;郑霞 |
地址: | 百慕大*** | 国省代码: | 百慕大群岛;BM |
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摘要: | 本申请涉及使用RF辐射的物体加工状态感测。一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈,该反馈与该物体的一种或多种加工状态相关;以及在该加工期间监测该计算出的RF反馈以检测该物体的一种或多种加工状态。 | ||
搜索关键词: | 使用 rf 辐射 物体 加工 状态 | ||
【主权项】:
1.一种用于对用于加工位于能量施加区域中的物体的能量施加进行控制的方法,所述方法包括:在从所述能量施加区域接收到的RF反馈满足标准之前的第一时间段期间,根据第一协议引起对所述能量施加区域的能量施加,并且然后在从存在所述物体的所述能量施加区域接收到的RF反馈满足所述标准之后的第二时间段期间,根据第二协议引起能量施加,其中所述第一协议包括用于控制所述能量施加的第一参数集合,所述第二协议包括用于控制所述能量施加的第二参数集合,所述标准用于将所述能量施加从所述第一协议改变到所述第二协议。
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