[发明专利]摄像装置以及摄像装置的制造方法

摘要

本发明提供一种摄像装置以及其制造方法。由形成于半导体衬底(SUB)的隔离区域(STI)来规定出P型阱(PW)。在P型阱(PW)中规定有像素区域(PER)和接地区域(GND)。在像素区域(PER)中规定有形成了光电二极管(PD)的光电二极管区域(PDR)和像素晶体管区域(PTR)。以至少覆盖光电二极管区域(PDR)以及接地区域(GND)的方式形成有防反射膜(ARF)。以贯穿防反射膜(ARF)等的方式形成有与接地区域(GND)连接的插塞(PG)。

主权项

一种摄像装置，其特征在于，具有：半导体衬底，其具有主表面；元件形成区域，其规定在所述半导体衬底上，由第一导电型的第一杂质区域形成；像素区域，其规定在所述元件形成区域上；光电转换部，其形成于所述像素区域；接地区域，其以与所述光电转换部隔着隔离部的方式规定在所述元件形成区域上，与所述光电转换部电连接并且与接地电位电连接；防反射膜，其以至少覆盖所述光电转换部以及所述接地区域的方式形成，用于抑制光的反射；层间绝缘膜，其以覆盖所述防反射膜的方式形成；以及插塞，其以贯穿所述层间绝缘膜以及所述防反射膜的方式形成，与所述接地区域电连接。