[发明专利]一种光刻版及应用光刻版制作发光二极管的方法有效
申请号: | 201610065484.7 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN105607411B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 闫晓红;曾凡志;任关涛;李俊生;叶青贤 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;H01L33/36 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻版及应用光刻版制作发光二极管的方法,属于半导体技术领域。所述光刻版应用于制作发光二极管,发光二极管包括衬底、层叠在衬底上的外延片、以及设置在外延片上的电极,电极包括焊盘和沿垂直于发光二极管的生长方向延伸的电极线,光刻版为圆形板,圆形板上设有多个形状与焊盘和电极线一致的通孔,圆形板分为至少两个区域,至少两个区域包括一个圆形区域和至少一个圆环区域,至少两个区域的圆心均与圆形板的圆心重叠,同一区域内的通孔的线宽相同,不同区域内的通孔的线宽自圆形板的圆心向外逐个增大,通孔的线宽为通孔中与电极线的形状一致的区域的宽度。本发明提高了对档率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 应用 制作 发光二极管 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻版,所述光刻版应用于制作发光二极管,所述发光二极管包括衬底、层叠在所述衬底上的外延片、以及设置在所述外延片上的电极,所述电极包括焊盘和沿垂直于所述发光二极管的生长方向延伸的电极线,所述光刻版为圆形板,所述圆形板上设有多个形状与所述焊盘和所述电极线一致的通孔,其特征在于,所述圆形板分为至少两个区域,所述至少两个区域包括一个圆形区域和至少一个圆环区域,所述至少两个区域的圆心均与所述圆形板的圆心重叠,同一区域内的所述通孔的线宽相同,不同区域内的所述通孔的线宽自所述圆形板的圆心向外逐个增大,所述通孔的线宽为所述通孔中与所述电极线的形状一致的区域的宽度。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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